分辨率 高真空模式(二次電子) 低真空(背散射電子) | 1.0nm (30kV),1.5nm (15kV),2.0nm(3kV),3.5nm(1kV) - |
工作真空 高真空模式 低真空模式 體真空 | <9×10-3Pa - <3×10-7Pa |
電子光學(xué)工作模式 | 分辨率/景深/視野/大視野/搖擺電子束 |
放大倍率 | 3×-1,000,000×連續(xù)可調(diào) |
加速電壓 | 500V至30kV |
電子 | 高亮度肖特基發(fā)射源 |
探針電流 | 2pA至100nA |
掃描速度 | 從200ns/pixel至10ms/pixel,可逐步或連續(xù)可調(diào) |
聚焦窗口 | 大小和位置連續(xù)可調(diào) |
掃描特性 | 動態(tài)聚集、點和線掃描、傾斜校正、3D Beam |
圖象尺寸
| 可達8192×8192像素,可單獨調(diào)整為動態(tài)圖像(4種)和存檔的圖像(10種),圖像比例可選1:1、4:3或2:1 |
顯微鏡控制 | 能過計算機(鍵盤、鼠標(biāo)、軌跡球)操作Mira TC軟件,所以顯微鏡的功能均可在WindowsTM平臺下實現(xiàn)。 |
自動程序 | 的實時電子束追蹤(In-Flight Beam TracingTM)技術(shù)可持續(xù)調(diào)節(jié)探針電流和束斑直徑,真空控制,電子合軸,掃描模式對中,加速電壓改變的補償,優(yōu)化束斑大小和探針電流,優(yōu)化放大倍率和束斑大小,掃描速度,高度和對比度,聚焦和消像散,Look Up Table |
遠程控制 | TCP/IP |