等離子體反應(yīng)器
低溫等離子體（non-thermal plaa，NTP）反應(yīng)器是各類實驗和應(yīng)用系統(tǒng)中重要的裝置之一。NTP可以通過低壓下的輝光放電（glow discharge）、射頻放電（radio frequency discharge）、微波放電（microwave discharge）或者常壓下的脈沖電暈放電（pulsecorona discharge）、介質(zhì)阻擋放電（dielectric barrier discharge，DBD）等多種方式獲得。
通常等離子體與催化組合在一起使用，根據(jù)組合方式可以分為R（in situ plaa catalytic reactor）和PPCR（post plaa catalytic reactor）兩種主要形式。
構(gòu)成：
等離子體反應(yīng)器由高鉛玻管、氣腔、安裝支架、緊固螺母、電、太陽花散熱器組成。
催化劑和等離子體組合有兩種方式：
?。?）前面是等離子體，后面是催化劑，叫做PPCR（Post Plaa Catalytic Reactor）
（2）另外一種是催化劑放在等離子體區(qū)內(nèi)，叫做R（in-situ Plaa Catalytic Reactor）
三,產(chǎn)品參數(shù)(DBD)
低溫等離子體（non-thermal plaa，NTP）反應(yīng)器是各類實驗和應(yīng)用系統(tǒng)中重要的裝置之一。NTP可以通過低壓下的輝光放電（glow discharge）、射頻放電（radio frequency discharge）、微波放電（microwave discharge）或者常壓下的脈沖電暈放電（pulsecorona discharge）、介質(zhì)阻擋放電（dielectric barrier discharge，DBD）等多種方式獲得。
通常等離子體與催化組合在一起使用，根據(jù)組合方式可以分為R（in situ plaa catalytic reactor）和PPCR（post plaa catalytic reactor）兩種主要形式。
構(gòu)成：
等離子體反應(yīng)器由高鉛玻管、氣腔、安裝支架、緊固螺母、電、太陽花散熱器組成。
催化劑和等離子體組合有兩種方式：
?。?）前面是等離子體，后面是催化劑，叫做PPCR（Post Plaa Catalytic Reactor）
（2）另外一種是催化劑放在等離子體區(qū)內(nèi)，叫做R（in-situ Plaa Catalytic Reactor）
其他說明
| 參數(shù)名稱 | DBD反應(yīng)器 | PCD反應(yīng)器 | PD(填充床)反應(yīng)器 |
| 氣體壓強p | ≥ 0.01 MPa | ≥ 0.01 MPa | ≥ 0.01 MPa |
| 微放電壽命τ | 1~10 ns | 200ns~1ms | - |
| 微放電通道半徑r | 0.1~0.2 mm | 0.02~0.2 mm | - |
| 電流密度j | 100~1000 A/cm 2 | < 600A/cm 2 | - |
| 電子平均能量Te | 1~30 eV | ~10eV | - |
| 電離度X | > 10 -4 | > 10 -4 | - |
| 氣體溫度Tg | ≈ 300K | ≈ 300K | ≈ 300K |
| 功率P | 5~1000w | 5~500W | 5~500W |
| 電形式 | 板式,管式 | 線管,線板,針板式等 | 管式 |
| R | 支持,催化劑涂層 | 支持,蜂窩,涂層 | 顆粒(pellets) |
| PPCR | 支持,各種催化劑 | 支持,各種催化劑 | 支持,各種催化劑 |
| INPUT | OUT P | OUT V | 壓力 | 外形尺寸mm | 材質(zhì) |
| 220V AC 50HZ | 5~500W | 2~20KV | 0.1~0.2Mpa | ∮60* 658 | 高鉛玻管,304不銹鋼 |
