主要用途:為導電膠提供氮氣保護環(huán)境下的高溫烘烤,保護元器件鍍層在高溫下不被氧化。在開始工作前預抽真空,去除工作室內(nèi)空氣,更好的氮氣保護環(huán)境。設(shè)備主體部分由不銹鋼制做,并配置膜片泵(干泵)作抽氣泵,對工作室無污染。
主要技術(shù)指標:
系統(tǒng)限真空度: 500Pa
工作真空度:1000 Pa
加熱溫度:350℃
工作溫度:可設(shè)兩段加熱,每段加熱目標溫度可設(shè)。
溫度均勻性: ±5℃
控溫:±1℃
層溫度調(diào)范圍: <5℃
立式真空室尺寸:500×500×500mm
真空室外側(cè):設(shè)水冷層與保溫層
內(nèi)置隔板層數(shù):8層,使用6層,上層與下層為輔組層。
每層可放置器件:1000片(3.5×6.0)
工作效率:2.5小時一個循環(huán)(按加熱溫度290℃測試)