主要特點：
1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測完通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預燃時間及標線，使儀器用短的時間優(yōu)的分析效果；
3、光學系統(tǒng)采用非真空恒溫光室， 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，檢出限，測定結(jié)果準確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性；
4、的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動光路校準，光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描，接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定；
6、開放式的電架設(shè)計，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線采用國際標樣，預做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；
8、HEPS固態(tài)光源，適應各種不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，油氣對光室的污染，長期運行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺底座，散熱性及堅固性能；
11、合理的氬氣氣路設(shè)計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電，電使用壽命更長，并設(shè)計了電自吹掃功能，清潔電更加容易；
13、DSP及ARM處理器，具有速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊 的運行狀況；
14、儀器與計算機之間采用以太網(wǎng)連接，干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
15、器件原裝，了儀器卓越的品質(zhì)。
| 光學系統(tǒng) | |
| 光學結(jié)構(gòu) | 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學系統(tǒng) |
| 光室溫度 | 自動控制恒溫：35℃±0.5℃ |
| 波長范圍 | 160-800nm |
| 光柵焦距 | 350 mm |
| 光柵刻線 | 2160 l/mm |
| 光譜線色散率 | 1.2 nm/mm |
| 探測器 | 多塊線陣CCD |
| 平均分辨率 | 10pm/pixel |
| 激發(fā)臺 | |
| 氣體 | 沖氬式 |
| 氬氣流量 | 激發(fā)時3-5L/min， 待機時:無須待機流量 |
| 電 | 鎢材電技術(shù) |
| 吹掃 | 點擊自吹掃功能 |
| 補償 | 熱變形自補償設(shè)計 |
| 分析間隙 | 樣品臺分析間隙：4mm |
| 激發(fā)光源 | |
| 類型 | HEPS固態(tài)光源 |
| 頻率 | 100-1000Hz |
| 放電電流 | 1-80A |
| 技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計 |
| 預燃 | 預燃技術(shù) |
| 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) | |
| 處理器 | 高端ARM處理器，數(shù)據(jù)同步采集處理 |
| 接口 | 基于DM9000A的以太數(shù)輸 |
| 電源與環(huán)境要求 | |
| 輸入 | 220VAC 50Hz |
| 功率 | 分析時700W，待機狀態(tài)40W |
| 工作溫度 | 10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h） |
| 工作濕度 | 20-80% |
| 尺寸與重量 | |
| 尺寸 | 800*450*500 mm |
| 重量 | 85Kg |
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