準分子紫外光清洗機

□ 自主知識產(chǎn)權(quán)，國際前沿光子處理技術(shù)；

□ 國際上玻璃清洗制程的主流技術(shù)；

□ 高效快速清洗；

□ 低溫大面積加工過程；

□ 瞬間開啟和熄滅，節(jié)省工藝時間；

□ 安裝角度靈活方便，操作使用簡單；

□ 電光轉(zhuǎn)化效率高，無廢舊回收問題，節(jié)能環(huán)保；

□ 工件可在大氣中進行清洗，便于生產(chǎn)線作業(yè)；

□ 可徹底清除物體表面的碳和有機污染物；

□ 干式清洗，無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題；

□ 保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率；

□ 產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度一致。

應用領(lǐng)域：

主要在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法為合適。

主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。

可以去除的污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。

技術(shù)參數(shù)：

項目                                       EWC70翻蓋型（Desktop Style）

適用工件尺寸                                         4-12inches

光源配置                                                 1x172nm           

輸出波長                                         172 nm

單燈光強                                         40mW/cm²

光照均勻度                                             ±3% （工件旋轉(zhuǎn)時）

光照時間設(shè)定                                         定時器，0-60 min

額定功率                                                 70W

功率可變范圍                                         0-100%

燈啟動時間                                             <1 s                            

真空反應腔                                             SUS304不銹鋼

觀察視窗                                                 KF50視鏡（可選）

工件臺                                                     可調(diào)高度，靜止/旋轉(zhuǎn)（可選）

工件裝載方式                           打開翻蓋，露出工件臺，裝卸工件

進出氣口                                        標配2個，KF15法蘭接口

真空系統(tǒng)配置                                         機械泵（可選）

真空計（10^-1Pa）及接口                       KF15法蘭接口

臭氧中和器和排氣系統(tǒng)                         可選

供電電源                                                 230V/50Hz

“ON”指示器                                       有

外觀尺寸(長x寬x高)                           500x500x400mm

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