（光伏專用/科研通用兩種應(yīng)用選擇）

HG-ES光譜橢偏儀是針對光伏太陽能電池研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的高性能光譜橢偏儀。

HG-ES光譜橢偏儀用于測量和分析光伏領(lǐng)域中多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如，厚度）和物理參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k），典型樣品包括：絨面單晶和多晶太陽電池上的單層減反膜（如SiNx，SiO2，TiO2，Al2O3等）和多層減反膜（如，SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx ?/Al2O3?等），以及薄膜太陽電池中的多層納米薄膜。

 特點：

·                         粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量

·                         晶體硅多層減反膜檢測 

·                         秒級的快速測量

·                         一鍵式儀器操作

·                         高品質(zhì)相位補償

·                               氙燈光源強度優(yōu)化系統(tǒng)

·                                 退偏糾正

·                                 自動可變?nèi)肷浣嵌?span lang="EN-US">

·                                 背照式CCD光譜采集系統(tǒng)

·                                 自動XYZ載物臺、真空吸附

·                          

應(yīng)用：

HG-ES光譜橢偏儀的應(yīng)用覆蓋了傳統(tǒng)光譜橢偏儀所測量的光面基底上的單層和多層納米薄膜，典型應(yīng)用包括：半導(dǎo)體（如：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等）、平板顯示（TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等）、功能性涂料：（增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學(xué)涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等)、生物和化學(xué)工程（有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等）等。

技術(shù)指標(biāo):

注：(1)：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標(biāo)準(zhǔn)差。