品牌：卡爾·蔡司

 型號：SUPRA 55 SAPPHIRE

 制造商：德國卡爾蔡司公司

【品牌故事】 
    世界光學(xué)品牌，可見光及電子光學(xué)的領(lǐng)導(dǎo)企業(yè)----德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學(xué)前身為LEO（里奧）,更早叫Cambridge（劍橋），積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗，ZEISS電子束技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個：

   臺靜電式透射電鏡 (1949)
    臺商業(yè)化掃描電鏡 (1965)
    臺數(shù)字化掃描電鏡(1985)
    臺場發(fā)射掃描電鏡(1990)
    臺帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992)
    臺具有Koehler照明的 200kV 場發(fā)射透射電鏡(2003)
    臺具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡(2003)

    CARL ZEISS以其前瞻性至臻完美的設(shè)計融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領(lǐng)域無可撼動的地位。自成立至今，一直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統(tǒng)，公司擁有電鏡制造先進(jìn)的專有技術(shù)，隨著離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入、是為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到全世界廣大用戶的信賴與認(rèn)可。作為電鏡標(biāo)準(zhǔn)的CARL ZEISS將一路領(lǐng)跑高端電鏡市場為您開創(chuàng)探求納米科技的嶄新紀(jì)元。

【總體描述】

    SUPRA 55 SAPPHIRE是一款擁有第三代GEMINI鏡筒的高性能場發(fā)射電子顯微鏡，它有的擺動緩沖系統(tǒng)，并結(jié)合了5軸驅(qū)動載物臺，通過不斷變換電壓可以獲得很高的分辨率。對于使用者來說，SUPPRA 55 SAPPHIRE的系統(tǒng)功能強大，可以在性對不穩(wěn)定的環(huán)境下完成檢測，完全分析型的場發(fā)射掃描電鏡探針電流可達(dá)到20nA，適用范圍如材料領(lǐng)域、半導(dǎo)體技術(shù)、生命科學(xué)和納米技術(shù)領(lǐng)域等。

    ZEISS的場發(fā)射掃描電鏡全部采用新一代鏡筒(GEMINI)設(shè)計，具有優(yōu)良的高、低加速電壓性能。創(chuàng)新的InLens設(shè)計是目前世界上真正的內(nèi)置鏡筒電子束光路上二次電子探測器，具有的靈敏度和的接收效率，而且只接收來自樣品表面的二次電子，因此具有業(yè)界等級的分辨率和圖像質(zhì)量。二次電子探測器和背散射電子探測器均內(nèi)置于鏡筒電子束光路上，試樣的工作距離不受背散射探測器的影響，可以非常接近極靴，這樣可以同時獲得的二次電子像分辨率和背散射電子像分辨率，且接收的背散射電子的能量可以控制。ZEISS的場發(fā)射掃描電鏡創(chuàng)造性的采用電磁、靜電復(fù)合式物鏡，雜散磁場小，可對鐵磁體樣品進(jìn)行高分辨率成像。

【技術(shù)參數(shù)】
分辨率：   0.8nm@ 15KV    
           1.6nm @ 1KV           
           2.0nm @ 30KV(VP mode)
放大倍數(shù)： 12 - 1,000,000x
加速電壓： 0.02 - 30 KV
探針電流： 4 pA - 20 nA (12pA - 100 nA 可選)
樣品室：   330 mm (φ) x 270 mm (h)
樣品臺：   5軸優(yōu)中心全自動 
                 X = 130mm 
                 Y = 130 mm 
                 Z = 50mm 
                 T = -3 to 70° 
                 R = 360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)
系統(tǒng)控制：基于Windows XP 的SmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標(biāo)、鍵盤、控制面板控制

 【產(chǎn)品應(yīng)用】
      掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。