安捷倫臺(tái)式HP 4500
ICP-MS，該系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)。因?yàn)榘雽?dǎo)體行業(yè)對(duì)檢出限要求高，通常要求ppt級(jí)的檢出限，這也就需要儀器具備高的靈敏度，同時(shí)
ICP-MS質(zhì)譜儀的同時(shí)多元素分析能力也大大滿(mǎn)足了半導(dǎo)體行業(yè)的需求。
在半導(dǎo)體行業(yè)中，的分析難點(diǎn)即為痕量K、Ca、Na、
Mg、Fe的分析，由于ICP-MS固有的質(zhì)譜干擾很難獲得上述痕量元素的準(zhǔn)確分析結(jié)果。HP
4500次引入了冷等離子體的感念，由于的冷等離子需要等離子體電勢(shì)顯著降低，以接口區(qū)域的二次放電導(dǎo)致的多原子電離干擾，安捷倫科技的屏
蔽炬技術(shù)能夠上述難題，實(shí)現(xiàn)了半導(dǎo)體行業(yè)ppt量級(jí)的K、Ca、Na、Mg、Fe元素的準(zhǔn)確分析，該技術(shù)也成為半導(dǎo)體行業(yè)痕量分析上述元素的標(biāo)準(zhǔn)
技術(shù)。
