產(chǎn)品特色：
薄膜到厚膜的寬測量范圍。
利用反射率光譜解析膜厚。
功能齊全，低價(jià)格並不影響高測量的表現(xiàn)。
設(shè)定與操作的簡易化，短時(shí)間內(nèi)即可上手。
提供價(jià)格優(yōu)惠的固定平臺與可自動對位平臺兩種規(guī)格。
非線性小二乘法、PV法、FFT法等多種膜厚測量手法。
以非線性小二乘法、解析光學(xué)常數(shù)(n:折射率，k:衰減系數(shù))。
測量項(xiàng)目：
反射率分析 |
多層膜解析(5層) |
光學(xué)常數(shù)解析（n:折射率，k:衰減系數(shù)） |
應(yīng)用范圍：
■光學(xué)薄膜(AR膜、ITO膜等)
■半導(dǎo)體晶圓(光阻、SOI、SiO2等)
規(guī)格樣式：
| 手動型 | 自動型 | ||
對應(yīng)樣品尺寸 | 200mm× 200mm | φ300mm | ||
對應(yīng)膜厚 | 厚膜 | 薄膜 | 厚膜 | 薄膜 |
膜厚測量范圍 | 100nm～40μm | 10nm～20μm | 100nm～40μm | 10nm～20μm |
波長測量范圍 | 400nm～800nm | 300nm～800nm | 400nm～800nm | 300nm～800nm |
膜厚*1 | ±0.5nm | ±0.5nm | ±0.5nm | ±0.5nm |
測量再現(xiàn)性*2 | ±0.05nm | ±0.03nm | ±0.05nm | ±0.03nm |
測量時(shí)間 | 0.1s～10s以內(nèi) | 0.1s～10s以內(nèi) | ||
測量口徑 | 約φ 1.2mm | 約φ 1.2mm | ||
自動對位功能 | 無 | 無 | 有 | 有 |
測量實(shí)例：
■PET基板上的DLC膜
■Si基板上的SiNx
