真空磁控濺射鍍膜機廣泛應(yīng)用于家電電器、鐘表、燈具、工藝美品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼以及儀器儀表、塑料、玻璃、陶瓷、磁磚等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而引起物體表面原子從母體中逸出的現(xiàn)象，早在1842年Grove在實驗室中就發(fā)現(xiàn)了這種現(xiàn)象。磁控濺射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數(shù)電場則分別用于平面靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，若電子具有的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+并產(chǎn)生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速飛向陰（濺射靶）并以量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。
本公司的磁控濺射鍍設(shè)備有以下幾大特點：1） 膜厚可控性和重復(fù)性好，能夠的鍍制欲定厚度的薄膜，并且，濺射鍍膜可以在較大的表面上獲得厚度均勻的膜層；2）薄膜與基片的附著力強，并且部分量的濺射原子產(chǎn)生不同程度的注入現(xiàn)象，在基片上形成一層濺射原子與基片原子相互溶合的偽擴散層；3）可以制備材料的薄膜，可以制膜層可以使用不同的材料同時濺射制備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；4）膜層，濺射膜層中不會混入坩鍋加熱器材料的成份。
本公司擁有完善的售后服務(wù)體系，使用本公司設(shè)備可提供技工、操作工培訓(xùn)和的生產(chǎn)工藝。
