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上海三研SYDC-500型浸漬提拉鍍膜機(jī)
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上海三研SYDC-500型浸漬提拉鍍膜機(jī)

產(chǎn)品價(jià)格:
電議
產(chǎn)品型號(hào):
SYDC-500
產(chǎn)品品牌:
上海三研
供應(yīng)商等級(jí):
企業(yè)未認(rèn)證
經(jīng)營(yíng)模式:
工廠
企業(yè)名稱:
上海三研科技有限公司
所屬地區(qū):
上海市
發(fā)布時(shí)間:
2019/4/23 16:57:37

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上海三研科技有限公司

企業(yè)未認(rèn)證營(yíng)業(yè)執(zhí)照已上傳

經(jīng)營(yíng)模式:工廠

所在地:上海市

主營(yíng)產(chǎn)品:浸漬提拉鍍膜機(jī),勻膠機(jī)/旋涂?jī)x,其他實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,測(cè)試服務(wù),技術(shù)咨詢

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上海三研SYDC-500型浸漬提拉鍍膜機(jī)

Dip Coater

 


一.產(chǎn)品應(yīng)用

    本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液(溶膠)中,通過(guò)預(yù)先設(shè)置的參數(shù),將浸漬后的基片以速度垂直提拉起來(lái)。在基片上附著一層膜,稱為 “濕凝膠膜”,隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”?!案赡z膜”經(jīng)過(guò)進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。膜層厚度由提拉速度,液體濃度和液體粘度決定。

二.產(chǎn)品簡(jiǎn)介

    浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門為液相(是sol-gel 法)制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì),對(duì)不同液體通過(guò)浸漬提拉生長(zhǎng)薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無(wú)要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無(wú)振動(dòng),可大實(shí)驗(yàn)與實(shí)驗(yàn)效率。

    適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

三.產(chǎn)品特點(diǎn)

    1.采用伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng),配合原裝的垂直提拉裝置和程序控制系統(tǒng),運(yùn)行及穩(wěn)定性;伺服電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)的高、平滑性、無(wú)抖動(dòng)等特點(diǎn)是步進(jìn)電比擬的。原裝的垂直提拉裝置具有精密度高、傳動(dòng)無(wú)間隙、運(yùn)行平滑、耐腐蝕、免維護(hù)、使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)。

    2.多參數(shù)全自動(dòng)程序控制。共有六個(gè)參數(shù)設(shè)置:下降速度、浸漬時(shí)間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時(shí)間,各參數(shù)均連續(xù)可調(diào),精密控制。鍍膜程序設(shè)定后,從下降到浸漬,再到提拉鍍膜的整個(gè)鍍膜過(guò)程全自動(dòng)運(yùn)行。也可進(jìn)入手動(dòng)操作模式鍍膜;

    3.采用箱體式設(shè)計(jì),鍍膜溶液及樣品均置于密閉箱體內(nèi),避免外界環(huán)境(微風(fēng)和灰塵)的干擾;前門及側(cè)面采用透明玻璃,便于觀察鍍膜過(guò)程;

    4.高、低速均運(yùn)行平穩(wěn),鍍膜時(shí)液面無(wú)振動(dòng),使膜層更均勻、無(wú)條紋。

    5.上下兩端均安裝有限位傳感器,提拉或下降運(yùn)行時(shí),到限位處自動(dòng)停止,避免提拉或下降的限運(yùn)行。

    6.采用10 英寸觸摸屏使控制更方便,運(yùn)行時(shí),各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示,更直觀了解鍍膜進(jìn)程;

    7.標(biāo)配3 套夾具夾持基片,更牢固更穩(wěn)定。采用設(shè)計(jì)的平口型夾具,兩面均勻夾持樣片,不會(huì)夾壞樣片。

四. 技術(shù)參數(shù)

    1.提拉速度范圍:1~10000 μm/s,小分辨率1 μm/s;

    2.速度:-0.01%~+0.01%

    3.提拉行程:540mm (以實(shí)際為準(zhǔn)) ;

    4.可鍍膜基片尺寸:MIN 10×10 mm,MAX 500×500 mm,厚度 MAX 10mm。

    5.浸漬時(shí)間:1~3600 s,小分辨率1s;

    6.鍍膜次數(shù):1~200 次,少1 次;

    7.每次鍍膜間隔時(shí)間:1~3600 s,小分辨率1s;

    8.電源:220V/50Hz

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所在地:
上海市
類型:
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上海市浦東新區(qū)宣秋路210號(hào)

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