RST3100電化學(xué)分析儀，電化學(xué)工作站，批量優(yōu)惠的詳細(xì)信息

1. 主要技術(shù)指標(biāo)： 電位控制范圍               ±12.8V 電位分辯率                 ±0.1mV 輸出電流                   ±250mA A/D分辨率                   24bit D/A分辨率                   16bit 溫度穩(wěn)定性                  <10uV/℃ 電位輸出                0.2%±1mV 電流測量量程                ±100nA～±250mA共14檔 電流輸出                0.2% CV和LSV掃描速率             0.1～10000mV/s 輸入阻抗//輸入電容          >1E12ohm//<10pF 輸入偏流                    <20pA 儀器尺寸                    360×300×14(立方厘米) 儀器重量                    <3kg  2. 分析測試方法: 線性掃描伏安法 線性掃描溶出伏安法 線性掃描循環(huán)伏安法 階梯伏安法 階梯溶出伏安法 階梯循環(huán)伏安法 方波伏安法 方波溶出伏安法 方波循環(huán)伏安法 差示脈沖伏安法 差示脈沖溶出伏安法 常規(guī)脈沖伏安法 差示常規(guī)脈沖伏安法 單電位階躍計(jì)時(shí)電流法 單電位階躍計(jì)時(shí)電量法 多電位階躍計(jì)時(shí)電流法 多電位階躍計(jì)時(shí)電量法 恒電位電解I-t曲線 恒電位電解Q-t曲線 恒電位溶出I-t曲線 恒電位溶出Q-t曲線 開路電勢(shì)E-t曲線 電位溶出E-t曲線 單電流階躍計(jì)時(shí)電位法 多電流階躍計(jì)時(shí)電位法 控制電流E-t曲線 塔菲爾圖(TAFEL)