刻線平臺(tái)（刻線平板）主要技術(shù)參數(shù)和參數(shù):   1、刻線平臺(tái)（刻線平板）平板工作面上不應(yīng)有銹跡、劃痕、碰傷及其他影響使用的外觀缺陷。   2、刻線平臺(tái)（刻線平板）平板工作面上不應(yīng)有砂孔、氣孔、裂紋、夾渣及縮松等鑄造缺陷。各鑄造表面應(yīng)徹底清除型砂，且表面平整、涂漆牢固，各稅邊應(yīng)修鈍。   3、在刻線平臺(tái)（刻線平板）平板的相對兩側(cè)面上，應(yīng)有安裝手柄或吊裝位置的設(shè)置、螺紋孔或圓柱孔。設(shè)置吊裝位置時(shí)應(yīng)考慮盡量減少因吊裝而引起的變形。   4、刻線平臺(tái)（刻線平板）應(yīng)經(jīng)穩(wěn)定性處理和去磁。   5、刻線平臺(tái)（刻線平板）工作面的硬度應(yīng)為HB170—220或187—255之間。   6、刻線平臺(tái)（刻線平板）主要檢定項(xiàng)目:   A、鑄鐵刻線平臺(tái)材質(zhì)及表面硬度。   B、鑄鐵刻線平板形狀位置公差，含名義尺寸，垂直度公差。   C、刻線鑄鐵平臺(tái)外觀。   D、平面度。   E、接觸斑點(diǎn)。   F、刻線鑄鐵平臺(tái)平面波動(dòng)量。   G、刻線鑄鐵平板工作面允許撓度值。   H、表面粗糙度。   7、刻線平臺(tái)（刻線平板）參數(shù):   3級平板未規(guī)定接觸斑點(diǎn)要求?？叹€平臺(tái)1級鑄鐵平板要求接觸斑點(diǎn)數(shù)在任意25×25mm平面內(nèi)不少于20點(diǎn)。   刻線平臺(tái)2級鑄鐵平板要求接觸斑點(diǎn)數(shù)在任意25×25mm平面內(nèi)不少于12點(diǎn)。   刻線平臺(tái)（刻線平板）別名：鑄鐵刻線平臺(tái)，鑄鐵刻線平板，刻線鑄鐵平臺(tái)，刻線鑄鐵平板。以上是刻線平板的詳細(xì)信息，如果您對刻線平板的價(jià)格、廠家、型號(hào)、圖片有什么疑問，請聯(lián)系我們獲取刻線平板的新信息。