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鞍山反滲透設(shè)備,鞍山EDI高純水設(shè)備,鞍山純凈水處理設(shè)備
EDI技術(shù)的出現(xiàn)改變了制備高純水只能采用混床的局面。一般混床工作時(shí)需要周期性的再生且再生過(guò)程中使用大量的化學(xué)藥品（酸堿）和純水，并造成一定的環(huán)境問(wèn)題；而膜、樹(shù)脂和電化學(xué)原理相結(jié)合的EDI技術(shù)確因?yàn)槠渌|(zhì)穩(wěn)定、容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制、不會(huì)因再生而停機(jī)、不需化學(xué)再生、運(yùn)行費(fèi)用低、廠房面積小、無(wú)污水排放等優(yōu)點(diǎn)而被廣泛使用。 相對(duì)于混床來(lái)EDI系統(tǒng)的進(jìn)水要求要求高些一般要求進(jìn)水電導(dǎo)率在40μS/cm2以下，為二級(jí)反滲透出水，現(xiàn)階段也有很多采用反滲透作為EDI預(yù)處理的成功應(yīng)用?？傮w來(lái)說(shuō)該方法與混床相比優(yōu)勢(shì)明顯但在性投資上還是有些劣勢(shì)。
采用反滲透預(yù)處理+EDI制作超純水,其電導(dǎo)率一般可達(dá)到17MΩ.CM以上,工業(yè)上廣泛應(yīng)用于電廠鍋爐、、醫(yī)藥、電子、機(jī)械等工業(yè)領(lǐng)域。
1、反滲透簡(jiǎn)介 鞍山反滲透設(shè)備,鞍山EDI高純水設(shè)備,鞍山純凈水處理設(shè)備
反滲透是滲透的一種反向遷移運(yùn)動(dòng)，是一種在壓力驅(qū)動(dòng)下借助于半透膜的選擇截留作用將溶液中的溶質(zhì)（實(shí)際水處理中指水中的雜質(zhì)、有機(jī)物、鹽類鈣、鎂、氯離子等）與溶劑（實(shí)際水處理中指水）分開(kāi)的分離方法。
脫鹽率：RO（反滲透）系統(tǒng)的脫鹽率一般在97％以上，反滲透膜的脫鹽率可達(dá)99.8％。
通過(guò)反滲透膜的處理，水中的無(wú)機(jī)鹽類、細(xì)菌、病毒、糖類、氨基酸、COD、BOD等雜質(zhì)被去除，從而達(dá)到純化和濃縮的目的。
2、EDI簡(jiǎn)介
EDI(Electro-de-ionization,continuouselectro-de-ionzation)又被稱為CDI和連續(xù)電除鹽。該技術(shù)是二十世紀(jì)八十年代以來(lái)逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過(guò)十幾年的發(fā)展EDI在歐美等國(guó)己普遍使用，且占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場(chǎng)。在國(guó)內(nèi)此項(xiàng)技術(shù)的應(yīng)用在起步階段，有蓬勃發(fā)展的態(tài)勢(shì)。我公司引進(jìn)進(jìn)口膜元組裝制造的EDI系統(tǒng)在國(guó)內(nèi)多家公司的成功應(yīng)用，為EDI系統(tǒng)的推擴(kuò)打下了基礎(chǔ)。
EDI裝置將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。EDI工作原理如圖所示。 EDI組件中將一定數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開(kāi)，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而被淡水中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng)，成為濃水。
EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)（MB-DI）生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn)：
①水質(zhì)穩(wěn)定
?、谌菀讓?shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制
?、鄄粫?huì)因再生而停機(jī)
④不需化學(xué)再生
?、葸\(yùn)行費(fèi)用低
⑥廠房面積小
?、邿o(wú)污水排放 鞍山反滲透設(shè)備,鞍山EDI高純水設(shè)備,鞍山純凈水處理設(shè)備
EDI設(shè)備一般以反滲透（RO）純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm（25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)17MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-17MΩ.cm(25℃)的純水。
EDI技術(shù)被制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室所普遍接受。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。
（一）EDI的給水處理
給水預(yù)處理對(duì)于EDI及其重要，組件的壽命、性能及維修量都取決于給水中的雜質(zhì)含量，如果給EDI提供較好的預(yù)處理水，組件的清洗率將會(huì)降低。EDI濃水一部分循環(huán)（當(dāng)給水硬度低、電導(dǎo)率時(shí)，可以不循環(huán)），另外一部分可以返回到反滲透給水中，也可以回收作為他用或直接排至下水道。
（二）EDI的組件結(jié)構(gòu)
1．淡水室：將離子交換樹(shù)脂填充在陰、陽(yáng)離子交換膜之間形成淡水單元。
2．濃水室：用網(wǎng)狀物將每個(gè)EDI單元隔開(kāi)，形成濃水室。
3．極水室。
4．絕緣板和壓緊板。
5．電源及水路連接。
可以將EDI并聯(lián)運(yùn)行，可取得更大流量。
（三）EDI過(guò)程
一般城市水源中存在鈉、鈣、鎂、氯化物、硝酸鹽、碳酸氫鹽等溶解物。這些化合物由帶負(fù)電荷的陰離子和帶正電荷的陽(yáng)離子組成。通過(guò)反滲透預(yù)處理，99%以上的離子可以被除去。另外，原水中也可能包括其他微量元素、溶解的氣體（例如CO2）和一些弱電解質(zhì)（例如硼，二氧化硅）這些雜質(zhì)在工業(yè)除鹽水中必須被除掉。但是反滲透過(guò)程對(duì)于這些雜質(zhì)的清除效果較差。
反滲透設(shè)備,EDI高純水設(shè)備,純凈水處理設(shè)備
離子交換膜和離子交換樹(shù)脂的工作原理相近，可以使特定的離子遷移。陰離子交換膜只允許陰離子通過(guò)，不允許陽(yáng)離子通過(guò)；而陽(yáng)離子交換膜正好相反。在一對(duì)陰陽(yáng)離子交換膜之間充填混合離子交換樹(shù)脂就形成一個(gè)EDI單元。陰陽(yáng)離子交換膜之間由混合離子交換樹(shù)脂占據(jù)的空間被稱為淡水室。將一定數(shù)量的EDI單元羅列在一起，使陰離子交換膜和陽(yáng)離子交換膜交替排列，并使用網(wǎng)狀物將每個(gè)EDI單元隔開(kāi)形成濃水室。在給定的直流電壓的推動(dòng)下，在淡水室中，離子交換樹(shù)脂中的陰陽(yáng)離子分別在電場(chǎng)作用下向正負(fù)極遷移，并透過(guò)陰陽(yáng)離子交換樹(shù)脂進(jìn)入濃水室，同時(shí)，給水中的離子被離子交換樹(shù)脂吸附而占據(jù)由離子電遷移而流下的空位。事實(shí)上離子的遷移和吸附是同時(shí)并連續(xù)發(fā)生的。通過(guò)這樣的過(guò)程，給水中的離子穿過(guò)離子交換膜進(jìn)入到濃水室被去除而成為除鹽水。
帶負(fù)電荷的陰離子（例如0H—、Cl—）被正極（+）吸引而通過(guò)陰離子交換膜，進(jìn)入到臨近的濃水室中。此后這些離子在繼續(xù)向正極遷移中遇到臨近的陽(yáng)離子交換膜，而陽(yáng)離子交換膜不允許其通過(guò)，這些離子即被阻隔在濃水中，在濃水中，透過(guò)陰陽(yáng)膜的離子維持電中性。
雙級(jí)反滲透+EDI高純水系統(tǒng)主機(jī)
EDI組件電流量和離子遷移量成正比。電流量由兩部分組成，一部分源于被除去離子的遷移，另一部分源于水本身電離產(chǎn)生的H+和0H-，這些就地產(chǎn)生的H+和0H-對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)再生。
EDI組件中的離子交換樹(shù)脂可以分為兩部分，一部分稱作工作樹(shù)脂，另一部分稱作拋光樹(shù)脂，二者的界限稱為工作前沿。工作樹(shù)脂主要起導(dǎo)電作用，而拋光樹(shù)脂在不斷交換和被連續(xù)再生。工作樹(shù)脂承擔(dān)著除去大部分離子的任務(wù)，而拋光樹(shù)脂則承擔(dān)著去除象弱電解質(zhì)等較難清除的離子的任務(wù)。
（四）EDI的電源
反滲透設(shè)備,EDI高純水設(shè)備,純凈水處理設(shè)備
所使用的直流電源應(yīng)在運(yùn)行電壓范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，并可以提供再生需要的電壓。直流電源的功率應(yīng)滿足EDI電流(6A)的要求。直流電源的紋波率不能超過(guò)30%。過(guò)高的紋波率會(huì)使EDI組件在瞬間承受高于表觀有效電流/電壓，造成對(duì)組件的破壞。當(dāng)多個(gè)EDI組件共用一個(gè)直流電源時(shí)，每個(gè)EDI電壓/電流應(yīng)實(shí)現(xiàn)獨(dú)立可調(diào)。配有電壓表和電流表。同時(shí)，應(yīng)當(dāng)配備限流裝置。為保護(hù)EDI組件，當(dāng)流經(jīng)EDI組件的水流量低于某一點(diǎn)時(shí)，應(yīng)關(guān)閉電源。
（五）EDI所用儀表
1．壓力表：測(cè)定EDI純水、濃水、極水給水壓力和出水壓力。
2．流量計(jì)：測(cè)量純水出水、濃水入水、極水入水及濃水補(bǔ)水的流量。
3．電導(dǎo)率儀：測(cè)量EDI給水和濃水入水電導(dǎo)率。
4．電阻率儀：測(cè)量EDI純水電阻率。
5．流量開(kāi)關(guān)：如果流入EDI組件的純水、濃水、極水流量過(guò)低，流量開(kāi)關(guān)會(huì)促使系統(tǒng)關(guān)閉。
五、純水的保存和給水
經(jīng)過(guò)EDI處理后的水即可為成品水，進(jìn)入純水箱保存，為保證水質(zhì)，一般采用氮封的辦法，即從純水箱頂部充入氮?dú)?。給水后，液位電磁閥與PLC配合，當(dāng)純水箱的水位低于水位時(shí)，PLC啟動(dòng)制水程序，整個(gè)系統(tǒng)開(kāi)始制水，直到純水箱水位達(dá)到水位，系統(tǒng)停止制水，如此循環(huán)往復(fù)，始終保持純水箱里有一定的水位。
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