品牌 | siyouyen | 型號 | 121 |
顯影機該機采用的單片微型機程序自動控制,顯影質(zhì)量好工藝條件穩(wěn)定適應宜科研和生產(chǎn)單位大規(guī)模集成電路和其它半導體器件的光刻工藝中作顯影之用。
本機顯影工藝采用了的噴霧方式,可根據(jù)工藝要求噴霧狀態(tài)電機的轉數(shù),程序時間的工藝參數(shù)都可在很寬的數(shù)值范圍內(nèi)調(diào)整,其程序為吸片、顯影、漂洗、干燥、復位。
采用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整,是對較細線條電路采用此工藝可得到很高的效果。
本設備除能實現(xiàn)顯影工藝外亦可進行人工涂膠,工藝指標與勻膠技術相同
主要技術指標
型號:121
顯影工位:一個工位
程序時間:顯影1—99秒漂洗1—99秒干燥1—99秒
旋轉器轉數(shù):500—8000轉/分(連續(xù)可調(diào))
硅片直徑:Φ30—Φ75mm
凈化效果:100級(美國聯(lián)邦標準)
操作區(qū)風速:0.3—0.5米/秒
氣流狀態(tài):垂直層流
外形尺寸:650Χ750Χ1620mm