- 企業(yè)類型:制造商
- 新舊程度:全新
- 原產(chǎn)地:江蘇省蘇州昆山市中華園西路1888號(hào)
- 測(cè)試平臺(tái):精密二維移動(dòng)樣品平臺(tái),探測(cè)器和X光管上下可動(dòng),實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。
- 探測(cè)器:Si-Pin探測(cè)器
- 工作原理:利用x射線對(duì)金屬表面進(jìn)行激發(fā),檢測(cè)熒光強(qiáng)度來(lái)?yè)Q算成金屬表層的厚度的儀器
- 準(zhǔn)直器大小:φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器
- 溫度要求:15℃至30℃。
- 電源:交流220V±5V 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源
- 外觀尺寸:576(W)×495(D)×545(H) mm
革新科技助力精準(zhǔn)測(cè)量
隨著科技的不斷發(fā)展,作為一種精密測(cè)量?jī)x器,在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。是一種用于測(cè)量薄膜厚度的儀器,通過(guò)其高精度的測(cè)量功能,可以幫助用戶準(zhǔn)確、快速地獲取薄膜的厚度數(shù)據(jù),為相關(guān)行業(yè)的研究和生產(chǎn)提供重要支持。
原理和特點(diǎn)
是利用光學(xué)干涉原理進(jìn)行測(cè)量的。其工作原理是通過(guò)測(cè)量光束在薄膜表面反射后的光程差來(lái)確定薄膜的厚度。臺(tái)式膜厚儀具有測(cè)量精度高、操作簡(jiǎn)單、測(cè)量快速的特點(diǎn),能夠滿足用戶對(duì)薄膜厚度測(cè)量的各種需求。
應(yīng)用領(lǐng)域
薄膜制備工藝控制:在薄膜的制備過(guò)程中,通過(guò)臺(tái)式膜厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度變化,幫助調(diào)節(jié)工藝參數(shù),保證薄膜的質(zhì)量穩(wěn)定。
材料表面分析:對(duì)于一些表面處理后的材料,可以幫助分析其表面薄膜的厚度,了解處理效果并進(jìn)行優(yōu)化。
光學(xué)元件生產(chǎn):在光學(xué)元件的生產(chǎn)中,可以幫助測(cè)量涂層、薄膜的厚度,確保產(chǎn)品的性能符合要求。
研究領(lǐng)域:在科研領(lǐng)域,臺(tái)式膜厚儀常用于薄膜材料的研究和實(shí)驗(yàn),為科研工作者提供準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)支持。
發(fā)展趨勢(shì)
隨著科技的不斷創(chuàng)新,在精度、測(cè)量范圍、操作便捷性等方面不斷提升。未來(lái),臺(tái)式膜厚儀有望實(shí)現(xiàn)更高的測(cè)量精度,更廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域和更便捷的操作方式,為用戶提供更好的測(cè)量體驗(yàn)。
各個(gè)廠家也在競(jìng)相研發(fā)新技術(shù),推出更先進(jìn)的產(chǎn)品,以滿足市場(chǎng)需求。無(wú)論是在薄膜制備、材料研究還是光學(xué)元件生產(chǎn)領(lǐng)域,臺(tái)式膜厚儀都將發(fā)揮越來(lái)越重要的作用。
原理、應(yīng)用領(lǐng)域和發(fā)展趨勢(shì)的介紹,相信讀者對(duì)這一儀器有了更深入的了解。在未來(lái)的科技發(fā)展中,臺(tái)式膜厚儀將繼續(xù)發(fā)揮重要作用,推動(dòng)行業(yè)的進(jìn)步和發(fā)展。