- 電壓:380
- 功率:4kw
- 物料類型:固-液
- 適用場所:實驗室/工廠
- 粉碎程度:納米級
二氧化硅高速納米膠體磨,白炭黑漿料分散,二氧化硅漿料實驗室高速納米膠體磨 氣相法二氧化硅漿料分散設(shè)備 氣相法白炭黑研磨設(shè)備 二氧化硅粉末濕磨設(shè)備,實驗室高速納米膠體磨 ,IKN實驗室高速納米分散機(jī)
二氧化硅,是一種無機(jī)化合物,化學(xué)式為SiO2,硅原子和氧原子長程有序排列形成晶態(tài)二氧化硅,短程有序或長程無序排列形成非晶態(tài)二氧化硅。二氧化硅晶體中,硅原子位于正四面體的**,四個氧原子位于正四面體的四個頂角上,許多個這樣的四面體又通過頂角的氧原子相連,每個氧原子為兩個四面體共有,即每個氧原子與兩個硅原子相結(jié)合。二氧化硅的*簡式是SiO2,但SiO2不代表一個簡單分子(僅表示二氧化硅晶體中硅和氧的原子個數(shù)之比)。純凈的天然二氧化硅晶體,是一種堅硬、脆性、不溶的無色透明的固體,常用于制造光學(xué)儀器等
氣相法白炭黑由于粒徑小、粒子表面能高、聚集嚴(yán)重。因此必須采用適當(dāng)?shù)姆稚⒎椒ú拍苓_(dá)到理想的分散狀態(tài)。工業(yè)上常用的分散設(shè)備有高速攪拌機(jī)、行星攪拌機(jī)、高剪切分散機(jī)等。
氣相法白炭黑在液體介質(zhì)中的分散受液體介質(zhì)的性質(zhì)、白炭黑的濃度、比表面積、分散程度、體系PH值、溫度、組分和添加劑等因素影響,在生產(chǎn)中需要綜合考慮以上因素,并根據(jù)實際需要調(diào)整生產(chǎn)工藝和配方,采用合適的設(shè)備才能充分發(fā)揮氣相法白炭黑的性能。
高剪切分散機(jī)是氣相法白炭黑分散到水中或溶劑中,對于粒徑還原要求較高時的理想設(shè)備。能夠還原氣相法二氧化硅的納米級粒徑,解開顆粒團(tuán)聚,受到多地客戶的熱烈好評。
IKN膠體磨:對流體物料進(jìn)行精細(xì)加工的機(jī)械。它綜合了均質(zhì)機(jī)、球磨機(jī)、三輥機(jī)、剪切機(jī)、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能,具有優(yōu)越的超微粉碎、分散ru化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后,粒度達(dá)2~50微米,均質(zhì)度達(dá)百分之90以上,是超微粒加工的理想設(shè)備。
IKN膠體磨工作原理:
該機(jī)是通過不同幾何形狀的定、轉(zhuǎn)子在高速旋轉(zhuǎn)下的相對運動,當(dāng)被加工物料在自重、氣壓力及離心力的作用下,通過可調(diào)整的定轉(zhuǎn)子的間隙時,受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、撞擊力、高頻振動等復(fù)合力的作用,被**地破碎、分散ru化及混合,從而得到理想的產(chǎn)品。
粉碎室設(shè)有三道磨碎區(qū),**為粗磨碎區(qū),二級為細(xì)磨碎區(qū),**為超微磨碎區(qū),通過調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙,能**地達(dá)到所需的超微粉碎效果(也可循環(huán)加工)。
IKN膠體磨結(jié)構(gòu)特點:
1.主要零部件采用**不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕、**。
2.主要工作部件定、轉(zhuǎn)子,采用特殊的機(jī)加工和熱處理工藝,加工精度高,使用壽命長。
3.定、轉(zhuǎn)子可選用不同的材料,配有研磨和剪切等不同的結(jié)構(gòu)和齒型,用戶可根據(jù)需要選擇,適用性廣。
4.加工間隙通過調(diào)整環(huán)進(jìn)行微量調(diào)整,易于控制,確保產(chǎn)品的加工質(zhì)量。
5.主體座、調(diào)整環(huán)配有限位和鎖緊裝置,保證加工間隙的穩(wěn)定。
6.配有**系統(tǒng),保證加工物料的性質(zhì)。
7.產(chǎn)品設(shè)計有普通進(jìn)出料、管式進(jìn)出料及循環(huán)加工等結(jié)構(gòu),**限度地滿足用戶的要求。
8.用戶可根據(jù)需要選擇普通電機(jī)或防爆電機(jī)。
9.整機(jī)設(shè)計有多種外包裝形式,可供用戶選擇。
10.主軸與電機(jī)分體設(shè)計,用戶可根據(jù)需要選擇適當(dāng)?shù)霓D(zhuǎn)速。
11.采用標(biāo)準(zhǔn)電機(jī)。
IKN膠體磨的應(yīng)用領(lǐng)域:
該機(jī)適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎,能起到各種半濕體及ru狀液物質(zhì)的粉碎、ru化、均質(zhì)和混合,主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國外同類產(chǎn)品的先進(jìn)水平。
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