IKN掩蔽劑實(shí)驗(yàn)室高速納米乳化機(jī)

掩蔽劑是指用以掩蔽干擾離子的試劑。分析化學(xué)中的所謂“掩蔽”，是指離子或分子無須進(jìn)行分離而僅經(jīng)過一定的化學(xué)反應(yīng)(通常是形成絡(luò)合物)即可不再干擾分析反應(yīng)的過程。對于有干擾的離子或分子，如不用分離的方法,則**借助于掩蔽手段。常用的掩蔽劑有無機(jī)掩蔽劑和有機(jī)掩蔽劑兩大類。有機(jī)掩蔽劑品種更多，效果更好，得到了更多的研究和應(yīng)用。

基本簡介

分析化學(xué)中的所謂“掩蔽”，是指離子或分子無須進(jìn)行分離而僅經(jīng)過一定的化學(xué)反應(yīng)(通常是形成絡(luò)合物)即可不再干擾分析反應(yīng)的過程。對于有干擾的離子或分子，如不用分離的方法,則**借助于掩蔽手段。一些有機(jī)染料結(jié)合了一些過渡金屬離子后，可以在一定波長的光線（如紫外線）照射下發(fā)光，一旦將其中的過渡金屬離子移走，體系即失去發(fā)光的能力。能將過渡金屬離子從發(fā)光體系中奪走的物質(zhì)就叫熒光掩蔽劑，通常是一些具有絡(luò)合能力的試劑，如EDTA等。

掩蔽原理

利用絡(luò)合反應(yīng)、氧化還原反應(yīng)或沉淀反應(yīng)，消除干擾離子的試劑  。

1.絡(luò)合反應(yīng)。如使用硫氰化鉀檢驗(yàn)含三價(jià)鐵離子的二價(jià)鈷離子溶液，應(yīng)用NaF作掩蔽劑。就是因?yàn)槿齼r(jià)鐵與氟離子發(fā)生絡(luò)合反應(yīng)。

2.沉淀反應(yīng)。如檢驗(yàn)?zāi)畴x子時(shí)，利用硫酸鹽作為鋇離子的掩蔽劑（見“常用掩蔽劑”條目），就是利用兩者結(jié)合生成沉淀以消除離子干擾。

3.氧化還原反應(yīng)。如檢驗(yàn)離子時(shí)，利用氨氣作為次氯酸根離子的掩蔽劑（見“常見掩蔽劑”條目），就是利用兩者發(fā)生氧化還原反應(yīng)而消除次氯酸根離子的干擾。 

設(shè)備設(shè)計(jì)構(gòu)造：

國內(nèi)ru化機(jī)，臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長，容易造成軸的偏心，運(yùn)轉(zhuǎn)不正常，需要**的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的ru化頭及軸

IKN高剪切ru化機(jī)，立式分體結(jié)構(gòu)，運(yùn)行時(shí)間長，不易造成軸的偏心，容易更換，而且只要更換相應(yīng)的皮帶，一般的人員可以操作。

密封：

國內(nèi)ru化機(jī)，填料密封或骨架密封，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀

IKN高剪切ru化機(jī)，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至*低，可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)，特殊德國PDFE軸封，可以運(yùn)行10000小時(shí)，可選擇德國高品質(zhì)機(jī)械密封，在一般的情況下，我們的機(jī)械密封可以**承受16bar 壓力，根據(jù)機(jī)械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口**壓力可以達(dá)到12-13 bar .

產(chǎn)品效果：

國內(nèi)ru化機(jī)，粒徑細(xì)度有限，10微米以下較困難，重復(fù)性差，產(chǎn)品粒徑分布不均勻

IKN高剪切ru化機(jī)，可實(shí)現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工，粒徑分布均勻，**級(jí)分散ru化

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