IKN滑石粉實驗室研磨分散機，專注乳化

滑石粉是一種工業(yè)產(chǎn)品，為硅酸鎂鹽類礦物滑石族滑石，主要成分為含水硅酸鎂，經(jīng)粉碎后，用鹽酸處理，水洗，干燥而成。

常用于塑料類、紙類產(chǎn)品的填料，橡膠填料和橡膠制品防黏劑，**油漆涂料等。

成分

滑石主要成分是滑石含水的硅酸鎂，分子式為Mg3[Si4O10](OH)2?；瘜賳涡本怠＞w呈假六方或菱形的片狀，偶見。通常成致密的塊狀、葉片狀 、放射狀、纖維狀集合體。無色透明或白色，但因含少量的雜質(zhì)而呈現(xiàn)淺綠、淺黃、淺棕甚至淺紅色；解理面上呈珍珠光澤。硬度1，比重2.7～2.8。

特性編輯 播報

具有潤滑性、耐火性、抗酸性、絕緣性、熔點高、化學性不活潑、遮蓋力良好、柔軟、光澤好、吸附力強等優(yōu)良物理、化學特性，由于滑石的結(jié)晶構(gòu)造是呈層狀的，所以具有易分裂成鱗片 的趨向和特殊的滑潤性。

正常情況下比較穩(wěn)定，無明顯副作用，但長期大量攝入具有致癌性。GB 9685—2008中規(guī)定：涂料中的**使用量為2.0/; 塑料(PE、PP、PS、AS、ABS、PA、 PET、PC)、橡膠和紙中按生產(chǎn)需要適量使用。 

上海IKN技術(shù)，獨特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了**分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

CMD2000系列是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。

CMD2000研磨機為立式分體結(jié)構(gòu)，**的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第*級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出*終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

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