詢(xún)價(jià)
金屬光譜分析儀主要測(cè)試金屬中的元素含量（碳、硅、錳、磷、硫、鎳、鉻、鉬、釩、鈦等），金屬成份決定了本身的性能及牌號(hào)，所以對(duì)一個(gè)生產(chǎn)合金的企業(yè)，把握好金屬的成份尤為關(guān)鍵，特別是作為爐前分析，能快速準(zhǔn)確的分析出金屬的成份，大大的降低了能耗，金屬光譜分析儀作為目前普遍也是端的檢測(cè)手段，得到了廣泛的應(yīng)用。
技術(shù)指標(biāo)
分光室設(shè)計(jì)：帕邢-龍格裝置，1米焦距；根據(jù)測(cè)試需求分為真空型、非真空型兩種；特殊材質(zhì)鑄造，保證腔室形變小
多安裝通道：32
凹面光柵：刻線密度2160gr/mm，曲率半徑998.8mm；逆線色散率0.47nm/mm，波長(zhǎng)范圍170-463mm
狹縫寬度：入射狹縫20μm；出射狹縫35-75μm
光電倍增管：10級(jí)側(cè)窗型，熔融石英或玻璃外殼
分辨率：依出射譜線波長(zhǎng)和級(jí)次而不同
金屬光譜分析時(shí)間：依樣品種類(lèi)而不同，一般少于50秒
激發(fā)光源：高壓火花放電，放電頻率200或400Hz，電極間距3-4mm
測(cè)光方式：分段積分法
控制系統(tǒng)：采用FPGA技術(shù)控制儀器工作狀態(tài)
性能優(yōu)勢(shì)
儀器全年工作，具有優(yōu)異的穩(wěn)定性和可靠性
可在約50秒內(nèi)同時(shí)分析32個(gè)通道
單一分光室，方便保養(yǎng)、維護(hù)
原廠分析程序，可校正集體效應(yīng)和譜線干擾
使用標(biāo)樣來(lái)標(biāo)定和標(biāo)準(zhǔn)化工作曲線，保證分析的準(zhǔn)確度
光源設(shè)計(jì)緊湊，有效降低電磁干擾，改善儀器穩(wěn)定性
高質(zhì)量的真空光學(xué)系統(tǒng)
高質(zhì)量的恒溫和防震性能
應(yīng)用領(lǐng)域
金屬光譜分析儀廣泛應(yīng)用于鑄造、鋼鐵、機(jī)械加工、航空工業(yè)、等企業(yè)，同時(shí)作為企業(yè)對(duì)來(lái)料的控制也是一個(gè)有效的手段。
