MKS 是的生產(chǎn)工藝控制設(shè)備供應商之一，其產(chǎn)品廣泛地應用于各種半導體器件、平板顯示器、太陽能電池、LED、光學儲存介質(zhì)、玻璃鍍膜、光電產(chǎn)品等生產(chǎn)設(shè)備及制藥和成像設(shè)備。MKS前瞻性的開發(fā)，推動其產(chǎn)品一直處于技術(shù)。MKS的電源、測量、控制和復雜氣體相關(guān)的工藝監(jiān)控技術(shù)，了設(shè)備完好率和產(chǎn)品成品率，了產(chǎn)量和產(chǎn)品性能。MKS產(chǎn)品起源于我們的壓力和流量測量與控制技術(shù)，延伸到材料遞送、氣體成份分析、工藝控制、信息管理、電源和反應氣體發(fā)生器及真空技術(shù)。

  MKS 擁有完整的技術(shù)及產(chǎn)品資源，無論是產(chǎn)品的研發(fā)設(shè)計、生產(chǎn)管理還是客戶支持服務(wù)，快速滿足客戶的各種需求。MKS主要提供有：氣體壓力及流量測量與控制、射頻/直流/微波電源發(fā)生器及測量工具、氟原子/臭氧反應氣體發(fā)生器、真空產(chǎn)品、氣體分析儀及信息和控制技術(shù)等產(chǎn)品。

工藝監(jiān)控

-TOOLweb® 工藝和工藝腔環(huán)境監(jiān)測。

-Vision 2000-B? 真空本底殘余氣體分析儀。

-Vision 2000-C? 化學氣相沉積 (CVD) 工藝殘余氣體分析儀。

-Vision 2000-E? 刻蝕 (Etch) 工藝殘余氣體分析儀。

-Vision 2000-P? 物相沉積 (PVD) 工藝殘余氣體分析儀。

-200/300mm Resist-Torr® 光刻膠監(jiān)測器。

-HPQ3 高壓殘余氣體分析儀，主要用于PVD工藝氣測。