珠海反滲透設(shè)備 EDI電子工業(yè)純水設(shè)備的詳細描述：

一、反滲透+EDI純水系統(tǒng)的特點

　　反滲透+EDI純水系統(tǒng)工藝通常由多介質(zhì)過濾器，碳過濾器，鈉離子器、精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)；由RO反滲透主機系統(tǒng)、EDI電除鹽系統(tǒng)構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護裝置；并備有在線水質(zhì)檢測控制儀表，電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備性。

   當今社會，物價上漲，資源缺乏，對資源的利用率，對降耗減排的要求越來越高，在水處理行業(yè)，經(jīng)過幾十年的發(fā)展，由初的混床工藝發(fā)展到RO反滲透，再到EDI電去離子的發(fā)明，到2005年，經(jīng)過長期的研發(fā)，本公司發(fā)明了當代的二級EDI工藝，成為水處理行業(yè)的又飛躍。二級EDI的性及其實用性，已逐步在國內(nèi)水處理得到！為了讓二級EDI在國內(nèi)水處理上占有更廣闊的市場，本公司對EDI與二級EDI的差別進行了詳細的分析，并用實際數(shù)據(jù)去論述二級EDI的性。

   經(jīng)過具體的分析比較，明顯可以看出，當今純水純水工藝中普遍采用的二級RO+EDI工藝并不是當代的純水純水工藝，由本公司發(fā)明的RO+二級EDI工藝比現(xiàn)普遍采用的二級RO+EDI工藝更，更具優(yōu)勢，它在與二級RO+EDI工藝有相同運行費用的同時，省去了大量性的投資費用，節(jié)約了設(shè)備占地面積，每年節(jié)約大量的運行費用。

   二級EDI膜堆比EDI膜堆具有更強的變能力，穩(wěn)定性更高的產(chǎn)品水。RO產(chǎn)水無法滿足EDI的進水要求，因此EDI進水水質(zhì)要求較高，一旦進水過EDI電去離子負荷，EDI就產(chǎn)水水質(zhì)用水標準。如EDI負荷過重，將導致EDI膜堆產(chǎn)水水質(zhì)下降，后報廢。而二級EDI膜堆即使在EDI產(chǎn)水用水要求的情況下，仍能產(chǎn)出用水標準的純水，且產(chǎn)品水水質(zhì)更穩(wěn)定，水質(zhì)標準更高。二級EDI受RO膜脫鹽性能影響不大，其進水門檻較低，可延長RO膜的使用期限，并且減少RO膜的更換費用。
   使用RO+二級EDI工藝，省去了二級RO設(shè)備，節(jié)約了該部分設(shè)備投資，同時了系統(tǒng)的回收率，是降耗減排、節(jié)約能源的目標！

二、電子工業(yè)用純水的特點和要求

   在現(xiàn)代電子工業(yè)發(fā)展的今天，工業(yè)生產(chǎn)對用水的要求也高。如半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、規(guī)模集成電路等行業(yè)就需用大量的高純水、純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

三、反滲透+EDI系統(tǒng)幾種常用的工藝

1、1級反滲透+1級EDI系統(tǒng)工藝；
2、2級反滲透+2級EDI系統(tǒng)工藝；
3、1級反滲透+2級EDI系統(tǒng)工藝；
4、2級反滲透+2級EDI系統(tǒng)工藝。

四、反滲透+EDI系統(tǒng)特點

1、產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定。
2、連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機。 
3、無需化學藥劑再生。 
4、設(shè)想周到的堆棧式設(shè)計，占地面積小。 
5、操作簡單、。
6、運行費用及維修成本低。 
7、無酸堿儲備及運輸費用。 
8、全自動運行，無需專人看護  。

五、反滲透+EDI純水設(shè)備系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域

1、電廠化學水處理；
2、電子、半導體、精密機械行業(yè)純水；
3、制藥工業(yè)工藝用水；
4、食品、飲料、飲用水的制備；
5、海水、苦咸水的淡化；
6、精細化工、精尖學科用水；
7、其它行業(yè)所需的高純水制備。