| 尺寸 | 500 x 750 x 650 mm |
| 重量 | 80Kg |
| 類型 | 自動 |
| 測量型號 | ≤ 4" |
| 測量方法 | 無連接的 |
| 測量原理 | 反射計 |
| 特征 | 測量迅速，操作簡單 非接觸式，非破壞方式 的重復(fù)性和再現(xiàn)性 2D/3D映射和造型 自動機(jī)械活動控制 電荷耦合器件照相機(jī) 自動調(diào)焦 |
| 活動范圍 | 300mm x 300mm |
| 測量范圍 | 100?~ 35?(Depends on Film Type) |
| 光斑尺寸 | 40?/20?,4?(option) |
| 測量速度 | 1~2 sec./site (fitting time) |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | All Capability of ST2000 & More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measure |
| 選擇 | Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST) Anti-vibration table |
| 接物鏡轉(zhuǎn)換器 | Quintuple Revolving Nosepiecs |
| 焦點 | Coaxial Coarse and Fine Focus Controls |
| 附帶照明 | 12v 100W Halogen Lamp |
