TEM用氮化硅薄膜窗口

氮化硅薄膜窗特點

?  低應力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撐膜：50nm厚的薄膜具有的視野范圍；8nm和15nm厚的無孔氮化硅薄膜適用于TEM分辨率的應用

?  氮化硅支撐膜：低應力的LPCVD非化學計量比氮化硅薄膜，良好的平整度、緣性和疏水性

?  良好的化學穩(wěn)定性：圖像分辨率和機械強度理想的平衡；

?  均勻性：減少了不同區(qū)域的不均勻性；

?  TEM斷面成像應用的窗口：適用于傾斜斷層成像的0.5x1.5mm大窗口，傾斜度可達75°

?  多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm

?  可應用于多種顯微技術：良好的機械穩(wěn)定性使得同一種薄膜可應用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。

?  薄膜和基底耐酸，不會被溶解：可以在酸性條件或常規(guī)條件下研究、制備樣本

?  可應用于高溫試驗環(huán)境： >1000° C

?  可提供更對的分析，如樣品中的碳含量，減少污染：可用于無碳環(huán)境中的TEM成像和分析

?  容：機械穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性使得薄膜很容易采用輝光放電或等離子清洗，無物殘留，成像質(zhì)量；

?  良好的平整度：良好的納米沉積基底和薄膜，無背景結構適合于SEM成像

?  凈加工，支撐膜上殘留微粒：100級的凈間內(nèi)包裝

?  框架厚度：200 and 50μm ：200μm是標準的TEM支撐架；50μm是的TEM支撐架

?  標準框架直徑為3mm

?  同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性

氮化硅薄膜窗規(guī)格

 單窗口系列

窗口類型	薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	框架厚度
	20nm	500x500μm	Φ3mm	100μm
	20/50nm	500x500μm	Φ3mm	200μm
	50nm	1000x1000μm	Φ3mm	200μm
	50nm	100x100μm	Φ3mm	200μm
	15nm	0.25x0.25mm	Φ3mm	200μm
	50nm	0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mm	Φ3mm	200μm
	200nm	0.25x0.25mm 0.5x0.5mm0.75x0.75mm1.0x1.0mm	Φ3mm	200μm
	15/50/200nm	0.25x0.25mm	Φ3mm	50μm
	50nm/200nm	0.5x1.5mm	Φ3mm	50μm

 多窗口系列 

窗口類型	薄膜厚度	窗口尺寸	框架尺寸	框架厚度
	50nm	2x1陣列，100X1500μm	Φ3mm	200μm
	15nm/50nm/200nm	2x1陣列，100X1500μm	Φ3mm	200μm
	50nm	2x1陣列，100X1500μm	Φ3mm	50μm
	10nm/20nm	3x3陣列，8個窗口100X100μm，1個窗口100X350μm	Φ3mm	100μm
	10nm	3x3陣列，8個窗口250X250μm，1個窗口250X500μm	Φ3mm	100μm
	20nm	3x3陣列，8個窗口100X100μm，1個窗口100X350μm	Φ3mm	200μm
	50nm	3x3陣列，8個窗口100X100μm，1個窗口100X350μm	Φ3mm	100μm
	15nm/50nm/200nm	3x3陣列，窗口100X100μm，	Φ3mm	200μm
	50nm	3x3陣列，窗口100X100μm，	Φ3mm	50μm
	8nm	單窗口，窗口大?。?.6×0.6mm；25個網(wǎng)格，氮化硅支撐膜200nm；網(wǎng)格上的氮化硅薄膜8nm；網(wǎng)格大小：75μm ，網(wǎng)格間距：25μm；	Φ3mm	200μm

應用簡介： 

1、適合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的對同一區(qū)域的交叉配對表征。

2、大窗口尺寸，適合TEM大角度轉動觀察。

3、無碳、無雜質(zhì)的清潔TEM觀測平臺。

4、背景氮化硅無定形、無特征。

5、、惰性襯底，適應各種聚合物、納米材料、半導體材料、光學晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，（薄膜直接沉積在窗口上）。

6、生物和濕細胞樣本的理想承載體。是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。

7、、惰性襯底，也可以用于化學反應和退火效應的原位表征。

8、適合做為膠體、氣凝膠、材料和納米顆粒等的表征實驗承載體。