TLJ-140離子濺射儀系列 基本原理與功能：該系列具有濺射與刻蝕功能。主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣備的儀器。 應用領域：金的離子濺射，也可用于其他金屬的濺射。 名稱 TLJ-140離子濺射儀系列 鍍膜方式 離子濺射 真空系統(tǒng) 直聯(lián)旋片真空泵2L/S 制膜種類 金屬膜 濺射靶結構形式 Φ63.5mm圓形平面靶 玻璃處理室 Ф140mm×H140mm 基片臺 Φ40mm可同時放6個樣品杯，可水冷，并可對樣品反濺射清洗。 放氣閥 位于鍍膜室頂部，便于放氣。 薄膜均勻性 ≤±5% 真空控制方式 手/自動控制 工藝氣體 空氣或氬氣，配有氬氣進氣口和微量充氣調節(jié)。 用電功率 ≥5KW
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