HI84100二氧化硫滴定分析儀的詳細(xì)信息

HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當(dāng)有氧存在時(shí)將先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。
主要性能特點(diǎn)
* 基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測(cè)量于一體。
* 性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單，可直接顯示測(cè)量結(jié)果。
* 人性化設(shè)計(jì)，具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當(dāng)殘留濃度超過2.0ppm時(shí)，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。HI84100食品二氧化硫滴定分析儀Sulfur Dioxide  Mini Titrator測(cè)量項(xiàng)目技術(shù)參數(shù)描述測(cè)量范圍0 to 400 ppm (mg/L) SO2解析度1 ppm (mg/L)測(cè)量讀數(shù)的5%測(cè)量方法滴定法測(cè)量原理等電位氧化還原滴定法樣品取樣量50 mL氧化還原電極類型HI 3148B/50食品專用玻璃復(fù)合氧化還原電極，電極適用溫度范圍：20 to 40°C定量泵設(shè)置流量設(shè)置為：0.5 mL/min磁力攪拌設(shè)置攪拌速率設(shè)置為：1500 rpm適用環(huán)境0 to 50°C（32 to 122°F）；max 95% RH 無冷凝電源模式AC230V/60 Hz；10VA尺寸重量主機(jī)尺寸：208 x 214 x 163 mm  主機(jī)重量：2200 gpH值與游離二氧化硫轉(zhuǎn)換關(guān)系相關(guān)項(xiàng)目pH值與游離二氧化硫轉(zhuǎn)換對(duì)應(yīng)值pH值3.0pH3.1 pH3.2 pH3.3 pH3.4 pH3.5 pH3.6 pH3.7 pH3.8 pH3.9 pH游離二氧化硫（ppm）14182228354455