產(chǎn)品簡介：

● 基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件，很容易操作

● 的深紫外光學及堅固耐用的震設計，以系統(tǒng)能發(fā)揮出的性能及長的正常運行時間

● 基于陣列設計的探測器系統(tǒng)，以快速測量

● 格，便攜式及靈巧的操作臺面設計

● 在很小的尺寸范圍內(nèi)，多可測量多達5層的薄膜厚度及折射率

● 在毫秒的時間內(nèi)，可以獲得反射率、傳輸率和吸收光譜等一些參數(shù)

● 能夠用于實時或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率

● 系統(tǒng)配備大量的光學常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫

● 對于每個被測薄膜樣品，用戶可以利用的軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫、也可以進行色散或者復合模型（EMA）測量分析

● 系統(tǒng)了可視化、光譜測量、、薄膜厚度測量等功能于一體

● 能夠應用于不同類型、不同厚度(厚可測200mm)的基片測量

● 使用深紫外光測量的薄膜厚度可至20 ?

● 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面

● 的成像軟件可用于諸如角度、距離、面積、粒子計數(shù)等尺寸測量

● 各種不同的選配件可滿足客戶各種的應用

系統(tǒng)配置：

●  型號：MSP100RTM

● 探測器：2048像素的CCD陣列

● 光源：高功率的深紫外－可見光光源

● 光傳送方式：光纖 

● 自動的臺架平臺：處理的鋁合金操作平臺，能夠在5”×3”的距離上移動，并且有著1μm的分辨率，程序控制

● 物鏡有著長焦點距離:4×，10×，15×(DUV)，50×

● 通訊接口：U的通訊接口與計算機相連

● 測量類型：反射/光譜、薄膜厚度/反射光譜和特性參數(shù)

● 計算機硬件：英特兒酷睿2雙核處理器，200G硬盤、DVD刻錄機，19”LCD顯示器

● 電源：110–240V AC/50-60Hz，3A

● 尺寸：16’x16’x18’ (操作桌面設置)

● 重量：120磅總重

● 保修：一年的整機及備件保修

基本參數(shù)：

●  波長范圍：250nm到1000 nm

● 波長分辨率: 1nm

● 光斑尺寸：100μm (4x), 40μm (10x), 30μm (15x), 8μm (50x)

● 基片尺寸：多可至20mm厚

● 測量厚度范圍: 20? 到25 μm

● 測量時間：快2毫秒

● 度*：0.5％（通過使用相同的光學常數(shù)，讓橢偏儀的結(jié)果與熱氧化物樣品相比較）

● 重復性誤差*：小于2 ?

應用領域：

● 半導體制造（PR，Oxide, Nitride..)

● 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）

● ，生物薄膜及材料領域等

● 油墨，礦物學，顏料，調(diào)色劑等

● 醫(yī)藥及醫(yī)藥中間設備等

● 光學涂層，TiO2, SiO2, Ta2O5... ..

● 半導體化合物

● 在MEMS/MOEMS系統(tǒng)上的功能性薄膜

● 非晶體，納米材料和結(jié)晶硅

產(chǎn)品可選項：

● 波長可擴展到遠深紫外光或者近紅外光范圍

● 高功率的深紫外光?用于小斑點測量

● 可根據(jù)客戶的需求來定制

● 在動態(tài)實驗研究時，可根據(jù)需要對平臺進行加熱或致冷

● 可選擇的平臺尺寸多可測量300??mm大小尺寸的樣品

● 更高的波長范圍的分辨率可0.1nm

● 各種濾光片可供各種的需求

● 可添加應用于熒光測量的附件

● 可添加用于拉曼應用的附件

● 可添加用于偏光應用的附件